Aperçu des sections
-
-
Neste video apresento algumas reflexões sobre Ensino on line, alguns métodos e comportamentos associados. Não há conteúdos relacionados ao curso. Duração: 40 minutos.
-
A partir de 14/07/2020 a nossa aula poderá ser acompanhada das 14hs às 17hs pelo link: https://meet.google.com/qeh-skbp-ffd
-
Os 3 grupos deverão criar plataformas (espaços de divulgação como Redes Sociais, sites, etc...) sobre processos de fabricação de circuitos integrados, sensores, MEMs, células solares, etc.
O público alvo são alunos de Graduação de qualquer área.
A plataforma deverá informar e motivar novos alunos e alunas a trabalharem e estudarem Microeletrônica, Novos Materiais aplicados à Eletrônica, Eletrônica Orgânica, Nanotecnologia, etc...
O espaço de divulgação pode mostrar os últimos avanços, curiosidades, onde existem cursos de graduação, pós-graduação e extensão sobre o tema; quais são as fábricas, institutos de pesquisa e empregos que utilizam estes profissionais, no Brasil e no exterior. Onde se pode fazer um doutorado ou pós-doc no Brasil ou no exterior. Quais as últimas novidades do mercado, as mais recentes aplicações existentes e as que prometem ser apresentadas ao mercado num período breve, mediano ou no futuro.
O grupo escolhe o que seria interessante tomar conhecimento no período da Graduação (ou no ensino médio, técnico ou não). Por exemplo, o que você gostaria de ter sabido durante a Graduação e não havia em nenhum lugar ou não era fácil encontrar.
Cada grupo será avaliado pela periodicidade, quantidade, qualidade e originalidade dos assuntos postados (80%) e pelo número de acessos, comentários e likes que a plataforma receber (20%).
-
-
Este artigo apresenta resumidamente uma série de fatos e ações que levaram à criação do transistor, e dar início ao desenvolvimento da microeletrônica.
-
Dedicated to Preserving the History of the Greatest Invention of the 20th Century
-
-
-
Gravação da aula de PSI 5761 de 08/06/2020 sobre Substratos de silício monocristalino
-
Nesta tarefa cada aluno individualmente deverá enviar uma apresentação de no minimo 5 e no máximo 10 slides, apresentando uma pesquisa sobre preços, dimensões, técnicas de obtenção de lâminas de silício.
Este trabalhos deverá ser enviado até às 12:00 de 16/06/2020.
-
Link para o formulário Google relativo á aula de 16/06/20
-
Vídeo aula sobre a obtenção de substratos de silício monocristalino e sobre o local onde os circuitos integrados são fabricados, as chamadas Salas Limpas.
-
-
321.7 Ko Document PDF
-
-
-
-
Gravação da aula de PSI 5761 de 16/06/2020 sobre Fotolitografia
-
Gravação de 3 apresentações A1 na aula de 16/06/20
-
Na Apresentação 2 cada aluno deverá fazer uma apresentação mostrando dois aspectos:
- Qual a menor dimensão que está sendo trabalhada atualmente: 1) Em trabalhos científicos? 2) Na Indústria
- Apresente 01 nova tecnologia para gravação de geometrias sobre um substrato de silício. Esta classe de tecnologias é referida como Sof Llithography, Nanolithography, etc...
A sugestão para esta apresentação é usar um slide para a pesquisa sobre as menores dimensões e 4 slides para apresentar as novas tecnologias de litografia. -
Vídeo-aula disponível sobre Fotogravação.
https://youtu.be/3P64UxIfBJk
-
-
-
Oxidação 1a parte - 45 min
-
Duração 59 min
-
-
Apresentação sobre os novos dielétricos denominados High K dielectrics. Nos primeiros slides apresentar porque foi necessário buscar novos materiais dielétricos para a fabricação de CIs. Apresentar os novos materiais que estão sendo utilizados/estudados e suas características elétricas e morfológicas.
-
Vídeo aula sobre oxidação do curso de Microeletrônica da UNIVESP. https://youtu.be/LEf9dgIyLi4
-
-
-
Esta gravação foi feita na edição de PSI 5761 do 1o Quadrimestre de 2020, em 14/04/2020. A duração da 1a parte é de 1h47min.
-
Esta gravação foi feita na edição de PSI 5761 do 1o Quadrimestre de 2020, em 14/04/2020. A duração da 2a parte é de 43 min.
-
Vídeo aula sobre dopagem (2a parte do video) do curso de Microeletrônica da UNIVESP.
https://youtu.be/LEf9dgIyLi4
-
-
-
-
Nesta tarefa cada aluno(a) deverá fazer uma apresentação mostrando MEMs e os processos de fabricação envolvidos, principalmente os relacionados à corrosão.
-
Vídeo aula sobre corrosão (2a parte da vídeo-aula) da disciplina Microeletrônica do curso de Engenharia de Computação da UNIVESP. Vídeo-aula gravada em 2017.
https://youtu.be/-r-OvuZ5AtU
-
-
Slides utilizados na aula.
-
Nesta apresentação cada aluno deverá apresentar um tipo de CVD que produza novos materiais semicondutores. Exclui-se somente a deposição de Si (mono, poli ou amorfo).
-
Link para o formulário Google relativo à aula de 14/07/2020.
-
Vídeo aula sobre Deposição (1a parte da vídeo-aula) da disciplina Microeletrônica do curso de Engenharia de Computação da UNIVESP. Vídeo-aula gravada em 2017.
https://youtu.be/-r-OvuZ5AtU
-
-
-
00:00 - A gravação inicia com a Apresentação do Vinicius sobre MEMs (5min)
05:05 - Depois temos instruções sobre o Trabalho Final a ser apresentado na aula em 11/08/20 (15 min)
-
Duração: 42 min
-
Duração: 20 min
-
00:00 Cobertura de degraus 04:02 Óxido de Silício (SiO2) 10:13 Planarização
15:41 Nitreto de Silício (Si3N4) 19:35 PECVD 26:46 Deposição de Metais
-
-
Nesta trabalho cada aluno deverá apresentar a deposição de um metal por CVD.
-
Link para o formulário Google relativo à aula de 21/07/2020.
-
Esta lista poderá ser entregue OPCIONALMENTE. Somente será considerada em situações de insuficiência de notas segundo os outros critérios.
-
Nesta tarefa cada um dos 3 grupos deverá colocar o nome da Plataforma de Difusão Científica e os objetivos da mesma. Por exemplo, qual é o tema da Plataforma e como ela funcionará (post diárias, semanais, mensais, etc).
-
Nesta tarefa cada aluno deverá colocar o tema escolhido para o trabalho individual.
-
-
-
Gravação sobre os princípios, arquitetura e modelos de Salas Limpas para a fabricação de CIs. Duração: 35 min.
-
Gravação sobre as Limpezas realizadas ao longo da fabricação de um XI.
Duração: 16 min -
Gravação da aula sobre Epitaxia. Duração: 36 min.
-
-
-
Nesta trabalho cada aluno deverá fazer uma comparação entre as características de filmes depositados por Epitaxia via CVD com filmes depositados por Epitaxia via MBE.
Junto com o PPT da apresentação cada aluno deverá enviar o link da gravação (de 5 minutos) da apresentação colocado no Youtube. Você pode depositar até 3 arquivos diferentes nesta Tarefa.
-
Link para o formulário Google relativo à aula de 29/07/2020.
-
Vídeo aula sobre Epitaxia (1a parte da vídeo-aula) da disciplina Microeletrônica do curso de Engenharia de Computação da UNIVESP. Vídeo-aula gravada em 2017.
https://youtu.be/VXIJkRdT630
-
Vídeo aula sobre o local onde os circuitos integrados são fabricados, as chamadas Salas Limpas.
https://youtu.be/ykpxLw431V8
-
-
-
-
Link para o formulário Google relativo à aula de 04/08/2020.
-
Link para o formulário Google relativo à aula de 11/08/2020.
-
Vídeo aula sobre Interconexões (2a parte da vídeo-aula) da disciplina Microeletrônica do curso de Engenharia de Computação da UNIVESP. Vídeo-aula gravada em 2017.
https://youtu.be/VXIJkRdT630
-
Nesta vídeo-aula são apresentados descrições etapa a etapa de um processo de fabricação de transistores CMOS
https://youtu.be/tU4Tr5s_DyY
-
-
Nesta tarefa cada aluno deverá carregar o texto do trabalho final
-
Nesta tarefa cada aluno deverá carregar a apresentação em PPT do trabalho final.
-
Nesta tarefa cada aluno deverá carregar o link do Youtube da apresentação do trabalho final.
-
-
-
AQUI você pode fazer o download da sua avaliação final. Não se esqueça de enviar um arquivo em WORD e um PDF.
Se você fizer a avaliação à mão, cuide para que as imagens e/ou a digitalização permitam uma boa leitura do texto.Os envios poderão ser feitos até às 18:30, considerando que cada aluno tem 2 horas para responder à Avaliação.
-
Prova para os nascidos em Janeiro, Junho e Novembro
-
Prova para os nascidos em Fevereiro, Julho e Dezembro
-
Prova para os nascidos em Março e Agosto
-
Prova para os nascidos em Abril e Setembro
-
Prova para os nascidos em Maio e Outubro
