PSI3552 - 2020 Processos e Caracterização de Dispositivos Nanoeletrônicos (2020)

Esta video-aula é a GRAVAÇÃO da aula remota ministrada em 18/09/2020 sobre a OXIDAÇÃO TÉRMICA:
00:00 - Resumo da aula anterior sobre Oxidação
05:00 - (Slide 28) Qual temperatura escolher para a oxidação?
14:20 - (Slide 33) Influência da dopagem do substrato na oxidação do silício
27:00 - Enunciado do exercício
32:30 - Resolução do exercício
41:20 - O que preciso fazer para dopara uma lâmina?
43:00 - Processos de DOPAGEM. 
56:00 - Dopagem do DIFUSÃO TÉRMICA.
1:10:00 - Explicação sobre o que é uma Aula Invertida.