PSI3552 - Processos e Caracterização de Dispositivos Nanoeletrônicos (2023)

00:00 - Diferenças entre Difusão com Fonte Finita e Fonte Infinita
07:21 - Considerações sobre um perfil de dopagem
15:55 - Solubilidade sólida
16:09 - Difusão lateral
26:00 - Implantação Iônica
27:10 - Danos na Implantação Iônica
27:55 - Posição Intersticial X Substitucional
29:20 - Annealing
30:20 - Profundidade x Concentração de dopantes
31:57 - Canalização
33:40 - Perguntas ao vivo