PSI3552 - Processos e Caracterização de Dispositivos Nanoeletrônicos (2023)

Esta video-aula é a GRAVAÇÃO da aula remota sobre a OXIDAÇÃO TÉRMICA:
00:00 - A reação química do processo de crescimento do SiO2
05:00 - Proporção entre camada de óxido e lâmina de silício consumida
10:00 - Cinética de crescimento do SiO2
12:30 - Equação de crescimento do SiO2
17:00 - Taxa linear e parabólico de crescimento do SiO2
23:57 - Tipos de crescimento do ´SiO2
32:00 - Como crescem as camadas de SiO2
33:00 - Difusividades elevadas do Na e H
34:00 - Cálculo da espessura do óxido em função da temperatura
43:00 - Oxidação úmida x seca
47:00 - Coeficiente de segregação
53:00 - Cargas no óxido
58:30 - Influência da direção cristalográfica na oxidação