Opzioni di iscrizione
Neste curso se propõe fornecer embasamento teórico e prático sobre os fundamentos
específicos de reatores à plasma para processos de deposição, corrosão e tratamento de
materiais de interesse em microeletrônica e outras áreas industriais. Serão estudados
conceitos de física das descargas gasosas e plasmas, propriedades relativas aos reatores
com acoplamento de potência de radiofrequência tanto indutivo quanto capacitivo e alta-
densidade, projeto de reatores e tecnologias de plasmas.
- Docente: Ronaldo Domingues Mansano
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