O curso propõe fornecer embasamento teórico e prático sobre os fundamentos específicos de reatores à plasma para processos de deposição, corrosão e tratamento de materiais de interesse em microeletrônica e outras áreas industriais. Serão estudados conceitos de física das descargas gasosas e plasmas, propriedades relativas aos reatores com acoplamento de potência de rádio-frequência tanto indutivo quanto capacitivo e alta-densidade, projeto de reatores e tecnologias de plasmas.

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