PSI3552 - Processos e Caracterização de Dispositivos Nanoeletrônicos (2023)

00:00 - Comentários
01:36 - Decapagem
01:51 - Seletividade
03:57 - Anisotropia
06:00 - Under e Over etching
06:30 - Influência da direção cristalográfica
12:24 - Vantagens e desvantagens da decapagem úmida
19:15 - Algumas receitas de decapagem úmida
23:47 - Decapagem seca
25:13 - Plasma Etching
28:00 - Reacrtive Ion Etching (RIE)
31:10 - Caracterização do Plasma
32:00 - MEMs
32:50 - SALAS LIMPAS
42:00 - Sobre as partículas numa Sala Limpa
44:20 - Fontes de contaminação de uma Sala Limpa