Ir para o conteúdo principal
Painel lateral
Disciplinas »
2024
2023
2022
2021
2020
2019
2018
2017
2016
2015
2014
2013
2012
AACCs/FFLCH
Pró-Reitoria de Pós-Graduação
Outros
Suporte »
Acesso
Perfis
Ouvintes
Docentes
Criação de Disciplinas da USP
Documentação
HelpDesk e Contato
Guia de uso
Sobre
Português - Brasil (pt_br)
Deutsch (de)
English (en)
Español - Internacional (es)
Français (fr)
Italiano (it)
Português - Brasil (pt_br)
Buscar
Fechar
Buscar
Alternar entrada de pesquisa
Acessar
PSI5838 - Processos Avançados de Microeletrônica (3/2017)
Início
Ambientes
2017
EP
PSI
PSI5838-3/2017
Listas 2017
Beyond CMOS
Beyond CMOS
Clique em
Beyond CMOS
para abrir o recurso.
◄ ITRS 2013 on Lithography
Seguir para...
Seguir para...
Avisos
Fórum de notícias
Discussão livre entre alunos
Forum livre entre os alunos
PSI5838-2015 Slides Aula07
PSI5838-2015 Slides Aula06
PSI5838-2015 Slides Aula04
PSI5838-2015 Slides Aula05
PSI5838-2017 Slides Aula03
PSI5838-2017 Slides Aula02
PSI5838-2017 Slides Aula01
PSI5838-2017 Questoes Aula08
Entrega da Lista 8
PSI5838-2017 Questoes Aula06
Entrega da Lista 6
PSI5838-2017 Questoes Aula05
Entrega da Lista 5
PSI5838-2017 Questoes Aula01
Entrega da Lista 1
Regras de Layout
ITRS 2013 on Lithography
Deposição ALD (em inglês - 64 min)
Uma breve revisão de ALD: fundamentos e aplicações (2014)
Sputering e Evaporação
Etch Processes for Microsystems - Part I (15min, Southwest Center for Microsystems Education)
Etch Processes for Microsystems Fabrication - Part II (15min, Southwest Center for Microsystems Education)
SNF.Stanford.Dry Etching Part 1 (13min)
SNF.Stanford.Dry Etching Part 2 (23min)
SNF.Stanford.Dry Etching Part 3 (19min)
SNF.Stanford.Dry Etching Part 4 (19min)
Corrosão por Plasma - Como usar na Poli-USP (9min)
Descargas RF
Deposição ALD (em inglês - 64 min) ►